羥基磷灰石納米溶膠-凝膠-DNA修飾電極的制作與應(yīng)用.pdf_第1頁(yè)
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1、聊城大學(xué)碩士學(xué)位論文羥基磷灰石納米溶膠凝膠DNA修飾電極的制作與應(yīng)用姓名:王桂香申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別:碩士專業(yè):分析化學(xué)指導(dǎo)教師:王懷生20050401聊城大學(xué)碩士學(xué)位論文H2F2uAl7(4RT),可分別I盤(pán)[Co(phen)3]3“2或lCo(bpy)J]““計(jì)算山dsDNA在HApPVA涂層上的吸附量幾當(dāng)溶液離子強(qiáng)度從146mM改變到646mM時(shí),[Co(phen)3]3m與DNA之間的作用方式從靜電作用變?yōu)榍度胱饔?,發(fā)生了本質(zhì)的變化,轉(zhuǎn)

2、折點(diǎn)為Ⅳ=49mM,此時(shí)靜電與嵌入作用處于5r衡狀態(tài);I而[Co(bpy)3】3”與DNA在146mM到746mM離子強(qiáng)度變化范圍內(nèi)一直為靜電作用。A壓”與p成線性關(guān)系,可獲得截距值,由截距值可分別得[Co(phen)3]“甜和[Co(bpy)313”的氧化態(tài)和還原態(tài)在零離子強(qiáng)度下與DNA的鍵合常數(shù)之比。結(jié)果與文獻(xiàn)報(bào)道的數(shù)據(jù)完仝或基本致。3電化學(xué)方法研究DNA與亞甲基藍(lán)之間的相互作用采用循環(huán)伏安法系統(tǒng)研究了固定在HApPVA混合涂層膜上

3、的DNA與亞甲基藍(lán)(MB)之間的相互作用。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,在20~200mV/s掃描速度范圍內(nèi),MB在DNA修飾電極上的氧化和還原峰電流與掃速均成線儺關(guān)系,說(shuō)明該電極反應(yīng)過(guò)程系表面反應(yīng)控制;在pH60~74范圍內(nèi),MB在DNA修飾電極上的氧化和還原峰電位均隨pH值的增加向負(fù)方向移動(dòng),且與pH值基本上成線性關(guān)系,由pH系數(shù)知參加反應(yīng)的電子數(shù)與質(zhì)子數(shù)不同;改變?nèi)芤旱碾x子強(qiáng)度,DNA修飾電極上的F7與HApPVA/GCE上的E均l嗣jI三方向移

4、動(dòng),但足AEo’值卻艇木I:沒(méi)彳r改變,表明=粥之IiIJ為靜I乜作用,作用方式并不受溶液離子強(qiáng)度變化的影響。根據(jù)Langmuir吸附公式,得出MB與DNA之間的吸附常數(shù)為42104M。4電化學(xué)方法研究DNA與蘆丁之間的相互作用采用循環(huán)伏安法系統(tǒng)研究了DNA與蘆丁之間的相互作用。考察了掃描速度、溶液pH值和離子強(qiáng)度對(duì)蘆丁在DNA修飾電極上電化學(xué)行為的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,在50~500mV/s掃描速度范圍內(nèi),蘆丁在DNA修飾電極上的氧化和

5、還原峰電流的對(duì)數(shù)與掃速的對(duì)數(shù)均成線性關(guān)系,Iogv的系數(shù)分別為o665和O731,說(shuō)明該電極反應(yīng)過(guò)程同時(shí)受擴(kuò)散和吸附控制,且擴(kuò)散控制占主導(dǎo)作用;在pH56~70范圍內(nèi),蘆丁在DNA修飾電極上的條件電位F’隨pH值的增加向負(fù)方向移動(dòng),且成線性關(guān)系,由pH系數(shù)知參加反應(yīng)的電子數(shù)與質(zhì)子數(shù)相同;HApPVA/GCE和DNA/HApPVA/GCE上的F隨離子強(qiáng)度增大均向正方向移動(dòng),但它們之間的相對(duì)移動(dòng)卻幾乎沒(méi)有變化,表明二者之間的作用方式基本上不

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