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文檔簡介
1、交換偏置機理是自旋閥巨磁電阻、硬盤磁頭和磁隨機存儲器等元器件所用到的關鍵物理基礎之一。對鐵磁(FM)/反鐵磁(AFM)薄膜系統(tǒng)中交換偏置效應的研究是磁電子學中一個重要的議題。近幾十年來,人們對其進行了廣泛研究并取得很大進展,但至今仍有一些問題尚不清楚。目前,在人們所研究的FM/AFM交換偏置系統(tǒng)中,鐵磁層材料的居里溫度Tc往往高于反鐵磁層材料的奈爾溫度TN,而對Tc<TN的FM/AFM系統(tǒng)中交換偏置規(guī)律則研究甚少。
本論文
2、采用磁控濺射方法分別在載玻片和Si(100)基底上沉積Cr(TN=311K)/Gd(Tc=293 K)、Cr/Tb(Tc=216 K)雙層膜和多層膜系統(tǒng),并研究了此類系統(tǒng)中交換偏置場HE、矯頑力Hc與溫度的關系以及退火處理對其微觀結構和磁特性的影響。在上述兩種系統(tǒng)中,鐵磁層釓(Gd)和鋱(Tb)的居里溫度均低于反鐵磁層鉻(Cr)的奈爾溫度。另外,本文還采用氣相沉積方法在α-Al2O3陶瓷自然斷面上成功制備鐵薄膜逾滲系統(tǒng),并研究了其微觀結
3、構和低溫磁特性。
研究結果表明:Tc和TN的相對大小、鐵磁層(Gd、Tb)和反鐵磁層Cr的特殊磁結構均顯著影響Cr/Gd、Cr/Tb薄膜系統(tǒng)的HE和Hc隨溫度的變化行為。
對Tc略小于TN的Cr/Gd雙層膜和多層膜系統(tǒng),實驗發(fā)現(xiàn);(1)交換偏置場HE隨溫度的變化行為HE(T)與Tc>TN的FM/AFM薄膜系統(tǒng)完全不同;(2)首次在Tc<TN的FM/AFM薄膜系統(tǒng)中觀察到正交換偏置現(xiàn)象;(3)當T>TN時交換偏
4、置現(xiàn)象仍然存在。研究結果表明:由于Tc與TN非常接近,在Tc<T<TN以及T稍稍大于TN的溫度范圍內,鐵磁層受反鐵磁層的強烈影響,從而導致了此類薄膜系統(tǒng)的反常HE(T)行為;正交換偏置的出現(xiàn)與Cr的自旋密度波波長隨溫度變化有關;當T>TN時,Gd層保持鐵磁有序態(tài),Cr層表現(xiàn)為公度自旋密度波反鐵磁相,二者在界面發(fā)生交換耦合,因此導致交換偏置現(xiàn)象仍然存在。
實驗證明,Cr/Gd薄膜樣品的矯頑力H。隨溫度變化行為Hc(T)與Gd
5、層的磁結構、Cr層厚度和Gd與Cr在界面處的交換耦合有關。在Cr/Gd薄膜系統(tǒng)中并未觀察到矯頑力增強效應,這是由磁化翻轉過程的非一致轉動造成的。對Cr(102nm)/Gd(90nm)雙層膜、Cr(102nm)/Gd(90nm)/Cr(102nm)三層膜和[Cr(20.4nm)/Gd(18nm)]5多層膜樣品,Hc隨溫度非單調變化。當80K<T<205K時,Hc隨溫度升高而逐漸減小,在T=205K達到極小值;在205 K<T<255 K溫
6、度范圍內,隨著溫度的升高,Gd的易磁化方向與c軸夾角由0°逐漸變成90°,導致了Hc隨溫度升高而增大的反常現(xiàn)象;當255K<T<Tc時,Hc又隨溫度升高而急劇減?。坏钱擳>Tc時,受反鐵磁Cr層的影響,Gd的各向異性突然增強,導致矯頑力隨溫度升高而增大。然而,對于[Cr(3.4nm)/Gd(3nm)]30多層膜樣品,由于Cr層厚度較小,相鄰Gd層之間通過中間Cr層發(fā)生耦合,鐵磁Gd層與反鐵磁Cr層的界面耦合與相鄰鐵磁Gd層層間耦合的共
7、存導致了此類多層膜的Hc隨溫度升高線性減小。
對Cr/Gd/Cr三層膜,退火熱處理顯著影響了其微觀結構和磁特性。X射線衍射(XRD)結果顯示:退火前樣品呈無定形或微晶結構,而退火后的樣品呈多晶結構。磁測量結果表明:(1)退火使樣品矯頑力減小。(2)退火前樣品在T<260K溫度范圍雖然表現(xiàn)出磁滯行為,但即使在15000 Oe的較強磁場下樣品也未出現(xiàn)飽和磁化;在260K<T<295 K時,樣品呈現(xiàn)超順磁特性。而退火后的樣品在T
8、<295 K時呈現(xiàn)鐵磁特性,易飽和磁化。
對于Tc遠小于TN的Cr/Tb雙層膜和多層膜系統(tǒng),其HE(T)和H。(T)行為與Cr/Gd薄膜系統(tǒng)的情況都明顯不同。在Cr/Tb多層膜中只觀察到負交換偏置現(xiàn)象,HE的絕對值隨溫度升高而單調減小,在居里溫度處HE降為零;對于Cr/Tb雙層膜,HE隨溫度的升高由負轉變?yōu)檎?,此現(xiàn)象再次證明了反鐵磁Cr的自旋密度波波長隨溫度升高而增大的事實。磁測量結果表明,雙層膜和多層膜樣品的矯頑力H。均
9、隨溫度升高線性減小。對于Cr/Tb雙層膜,HE和Hc與Cr層厚度的關系曲線中有峰值出現(xiàn)。
對沉積在α-Al2O3陶瓷自然斷面上鐵薄膜的XRD結果顯示:此類鐵薄膜呈現(xiàn)微晶結構。場發(fā)射掃描電子顯微鏡的表面分析結果顯示,樣品中出現(xiàn)了非平整薄膜特征。磁測量結果表明:由于薄膜表面磁各向異性的無序和表面的氧化,鐵膜中同時存在類自旋玻璃態(tài)和鐵磁相。此類鐵薄膜的矯頑力隨溫度變化行為Hc(T),在T=10K附近,有一明顯的極大值峰,此奇異矯
10、頑力行為與鐵薄膜樣品中的類自旋玻璃態(tài)有關。
類自旋玻璃態(tài)中的凍結自旋與鐵磁相的可翻轉自旋之間的交換耦合,導致鐵薄膜樣品中出現(xiàn)了明顯的交換偏置現(xiàn)象。交換偏置場隨溫度的變化關系HE(T)與冷卻場大小HCF有關,當HCF=2000 Oe時,HE在測量溫度范圍內始終為負值;當HCF=20000 Oe時,隨著溫度的升高,HE出現(xiàn)由負到正的轉變。不論冷卻場大小,HE(T)在T=5K附近均出現(xiàn)了極小值。
本文各章節(jié)內容如下
11、:
第一章:綜述磁交換偏置現(xiàn)象的基本特征、相關效應、理論模型、實驗規(guī)律和磁性薄膜的研究現(xiàn)狀。
第二章:介紹薄膜樣品制備和性質表征的實驗原理和方法。
第三章:系統(tǒng)研究Tc略小于TN的Cr/Gd雙層膜和多層膜中交換偏置場以及矯頑力隨溫度的變化規(guī)律,同時研究了退火處理對Cr/Gd/Cr三層膜的微觀結構和磁特性的影響。
第四章:研究Tc遠小于TN的Cr/Tb雙層膜和多層膜的交換偏置場以及矯
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