不同酸蝕體系對牙本質(zhì)粘接界面納米滲漏影響的實驗研究.pdf

1、目的： 本實驗以離體前磨牙為研究對象，運用掃描電鏡觀察不同酸蝕體系和時間對牙本質(zhì)粘接界面納米滲漏的影響，評價粘接劑邊緣封閉性，以期尋找合適的酸蝕時間與方法，為臨床使用提供實驗依據(jù)。 方法： 將45顆離體前磨牙，分別用320目、400目、600目碳化硅砂紙在流水沖洗下預備出牙本質(zhì)粘接面玷污層。隨機分為5組，除E組5顆外，A組、B組、C組、D組每組10顆牙，分別酸蝕0s、15s、30s、45s后再分別使用SB和PB粘

2、接劑處理每個亞組5顆牙：E組：使用AP粘接劑；制件，銀染后制作電鏡標本，SEM下觀察并照相。 結果： 1.SEM觀察。 A組中未見銀染顆粒，未見納米滲漏；其余組均可見銀的積聚，呈線狀或點狀，納米滲漏程度不一，B組與E組最少，D組SB亞組最多。 2.NIH Image數(shù)據(jù)分析。 A組為零；B組的SB與PB亞組納米滲漏差異無統(tǒng)計學意義（P>0.05）；C組和D中SB亞組產(chǎn)生的納米滲漏比PB亞組產(chǎn)生的納

3、米滲漏大，差異具有統(tǒng)計學意義（P<0.05）。SB和PB在不同酸蝕時間下（除不酸蝕組）差異均有統(tǒng)計學意義（P<0.05），即產(chǎn)生的納米滲漏值隨酸蝕時間的延長而顯著增加。E組AP與B組SB和PB相比，納米滲漏差異不具有統(tǒng)計學意義（P>0.05）；而與C組、D組的納米滲漏差異具有統(tǒng)計學意義（P<0.05），即按操作要求的AP粘接后產(chǎn)生的納米滲漏均比酸蝕30秒或45秒后分別使用SB和PB粘接劑產(chǎn)生的納米滲漏小。 結論： 1.全