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文檔簡介
1、該工作采用蒙特卡羅方法,首次對以H<,2>/C<,2>H<,2>為源氣體合成金剛石薄膜的EACVD過程進行了研究,初步建立了EACVD氣相動力學模型.主要結(jié)果如下:(1)研究了氫原子的產(chǎn)生及其空間分布隨實驗條件的變化.給出了氣體溫度聚平均溫度及取隨空間變化的溫度時,偏壓為100V、200V、300V的條件下,氫原子的產(chǎn)生;(2)研究了低溫淀積金剛石的生長機制,提出了金剛石生長所需的基片溫度和基片表面上含碳粒子能量的關系,并且指出:如果要
2、獲得高質(zhì)量的金剛石薄膜,除了含碳物種具有沿著基片表面擴散的能力外,還要求有大量的氫原子存在;(3)提出了一種由氫原子譜線測定電子平均能量的方法,結(jié)果對EACVD生長金剛石薄膜過程中,實時監(jiān)測電子平均能量具有重要的意義,進而可以有效地控制工藝條件,生長出高質(zhì)量的金剛石薄膜;(4)給出了在不同E/N條件下,電子在乙炔分子中的漂移速度曲線,及在不同E/N條件下,電子的能量分布情況.上述結(jié)果對于EACVD合成金剛石薄膜中實驗參數(shù)的選擇及低溫下合
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