2023年全國(guó)碩士研究生考試考研英語(yǔ)一試題真題（含答案詳解+作文范文）_第1頁(yè)
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1、蝕刻是用化學(xué)或物理方法有選擇地從襯底表面去除不需要的材料的過(guò)程。蝕刻的重要參數(shù)有蝕刻率、選擇比和均勻性等。半導(dǎo)體去處光刻膠工藝一般分為濕法蝕刻去膠法和干法蝕刻去膠法（亦稱(chēng)Ashing）。與傳統(tǒng)的濕法蝕刻去膠法相比，干法蝕刻去膠法具有蝕刻率高，可靠性高的優(yōu)點(diǎn)。然而正是由于具有很高的蝕刻率，從而工藝參數(shù)的略微變化就可導(dǎo)致其蝕刻率產(chǎn)生比較大的變化。公司后段Asher機(jī)臺(tái)的光刻膠蝕刻率就存在較大的波動(dòng)，衡量其穩(wěn)定性的Cpk值達(dá)不到公司和客戶(hù)要求

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