電離輻射促HA納米載體介導(dǎo)的hGM-CSF基因在人肝癌HepG2細(xì)胞中的轉(zhuǎn)移及表達(dá).pdf_第1頁
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文檔簡介

1、目的:觀察電離輻射對羥基磷灰石納米顆粒介導(dǎo)的質(zhì)粒pORF-hGM-CSF基因轉(zhuǎn)染的影響并探索出能提高羥基磷灰石轉(zhuǎn)染效率的方法。
  方法:轉(zhuǎn)染細(xì)胞前,依據(jù)不同輻射劑量下的HepG2細(xì)胞劑量-存活曲線選出2,4,6 Gy不同劑量分組照射。72小時后RT-PCR檢測HepG2細(xì)胞內(nèi)hGM-CSF的mRNA表達(dá)水平以比較轉(zhuǎn)染效率。
  結(jié)果:電離輻射可以促進(jìn)HA納米載體介導(dǎo)的基因在HepG2細(xì)胞中的轉(zhuǎn)移和表達(dá),在輻射劑量為6,4G

2、y時, hGM-CSF基因mRNA相對表達(dá)量可達(dá)0.9941±0.0703,0.9501±0.5619,與劑量為0Gy的表達(dá)量差異有統(tǒng)計學(xué)意義(P﹤0.05),但與Lipofectamin2000組比較差異無統(tǒng)計學(xué)意義(P﹥0.05),輻射劑量為6,4,2,0Gy時,培養(yǎng)基中hGM-CSF的分泌量分別為499.20±5.76、497.06±4.54、472.53±3.91,428.65±7.16ng/106cell。故當(dāng)輻射劑量為6,4

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