RNAi對晶體上皮細(xì)胞炎癥損傷模型中IKK-α及下游因子的抑制作用的研究.pdf

1、青島大學(xué)碩士學(xué)位論文RNAi對晶體上皮細(xì)胞炎癥損傷模型中IKKα及下游因子的抑制作用的研究姓名：張晶申請學(xué)位級別：碩士專業(yè)：眼科學(xué)指導(dǎo)教師：趙桂秋20080601增加。在轉(zhuǎn)染混合物的組成為lOnMSiRNA與3OIl1HiPerFect2000時轉(zhuǎn)染效率最高達706％，并且仍能保證80％的細(xì)胞存活率。3實時熒光定量PCR證實：設(shè)計并體外轉(zhuǎn)錄合成的3條IKKasiRNA轉(zhuǎn)染HLE—B3細(xì)胞后，有2條能夠使細(xì)胞IKK—QmRNA的表達明顯減

2、少，并且其中l(wèi)條的抑制作用可以達到82％。4定量PCR結(jié)果顯示：與『F常組比較，轉(zhuǎn)染24h后(即加入TNF—Q前)，siRNA組與TNFsiRNA組IKK—QmRNA的表達明顯減少，加入TNFQ后TNF組IKKQmRNA明顯增加，TNFsiRNA組雖有增加但仍低于正常細(xì)胞水平。雙抗體夾心法El。ISA結(jié)果顯示：各實驗組的細(xì)胞培養(yǎng)液中IKKQ蛋白、IL1B、TGF6的含量變化規(guī)律與IKKQmRNA的變化規(guī)律相一致。結(jié)論：1應(yīng)用rhTNFa

3、進行刺激是建立HLE—B3細(xì)胞炎癥損傷模型的有效方法。2HLEB3細(xì)胞炎癥損傷模型中IKKQ被活化并表達增加，且該因子于胞漿、胞核中表達均呈陽性，IKKQ可能是外傷障中開啟炎癥損傷的關(guān)鍵因子。3經(jīng)過轉(zhuǎn)染條件的優(yōu)化，轉(zhuǎn)染試劑HiperFect2000能將siRNA高效的轉(zhuǎn)染進HLE—B3細(xì)胞。4自行設(shè)計合成的IKKasiRNA轉(zhuǎn)染進細(xì)胞后可以有效地實現(xiàn)對相應(yīng)的內(nèi)源性RNA的降解。5利用RNA干擾(RNAi)的方法可以有效的抑制TNFQ誘導(dǎo)