0.18μm光刻制程中顯影工藝的優(yōu)化

1、 上海交通大學(xué)碩士學(xué)位論文 0.18µm 光刻制程中顯影工藝的優(yōu)化 碩 士 研 究 生： 吳 敏 學(xué) 號： 1102102030 導(dǎo) 師： 榮國光 副 導(dǎo) 師： 阮春軍 申 請 學(xué) 位： 工程碩士 學(xué) 科： 集成電路工程 所 在 單 位： 微電子學(xué)院 答 辯 日 期： 2013 年 5 月 12 日 授予學(xué)位單位： 上海交通大學(xué) 上海交通大學(xué) 上海交通大學(xué) 上海交通大學(xué) 上海交通大學(xué)

2、 學(xué)位論文原創(chuàng)性聲明 學(xué)位論文原創(chuàng)性聲明 學(xué)位論文原創(chuàng)性聲明 學(xué)位論文原創(chuàng)性聲明 本人鄭重聲明： 所呈交的學(xué)位論文 《0.18µm 光刻制程中顯影工藝的優(yōu)化》，是本人在導(dǎo)師的指導(dǎo)下，獨(dú)立進(jìn)行研究工作所取得的成果。除文中已經(jīng)注明引用的內(nèi)容外，本論文不包含任何其他個(gè)人或集體已經(jīng)發(fā)表或撰寫過的作品成果。對本文的研究做出重要貢獻(xiàn)的個(gè)人和集體，均已在文中以明確方式標(biāo)明。本人完全意識(shí)到本聲明的法律結(jié)果由本人承擔(dān)。 學(xué)位論文作者簽名：日期：