三缺位Keggin結構雜多陰離子有機硅衍生物的合成、表征及晶體結構.pdf

1、本文主要以三缺位Keggin結構雜多陰離子[α-A-XW<,9>O<,34>]<'n->(X=P，Si，Ge，Ga)為基本構筑塊，在以四丁基溴化銨為相轉移劑的情況下，與有機硅在乙腈中反應，成功合成了一系列新型的三缺位Keggin結構雜多陰離子有機硅衍生物，并用元素分析、紅外光譜、紫外光譜、X-射線單晶衍射等對化合物進行了表征，研究了化合物的熱性質。 (1) 以[α-A-XW<,9>O<,34>]<'n->(X=P，Si，Ge，G

2、a)和C<,6>H<,5>SiCH<,3>Cl<,2>為原料，合成了新型的三缺位Keggin結構雜多陰離子甲基苯基雙取代型有機硅衍生物?；衔锏年庪x子是由一個α-A-XW<,9>(X=P，Si)單元，通過六個Si-O-W鍵與三個C<,6>H<,5>SiCH<,3>基團相連，形成一個開放結構衍生物。并進一步對化合物的熱性質進行了研究。 (2)以Na<,10>[α-SiW<,9>O<,34>·18H<,2>O和CH<,3>SiHCl

3、<,2>為原料，成功合成了第一例新奇的雜多陰離子六取代有機硅衍生物。該化合物的陰離子是由一個α-A-SiW<,9>單元，通過六個Si-O-W鍵與六個CH<,3>Si基團相連，六個CH<,3>Si基團再通過Si-O-Si鍵連接起來，形成一個開放結構衍生物。 (3)以Na<,9>[A-PW<,9>O<,34>]·nH<,2>O和(CH<,3>)<,2>CHCH<,2>SiCl<,3>為原料，合成了[A-PW<,9>O<,34>]<'