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1、隨著設(shè)計技術(shù)和工藝水平的提高,設(shè)計工程師面臨的問題不僅僅是速度,面積上的要求,功耗也是他們需要考慮的一大要點。 在深亞微米級的設(shè)計中,動態(tài)功耗占絕大部分,通過降低電壓,提高工藝可以很大幅度地降低芯片功耗。 隨著電壓的降低,閾值電壓也會相應(yīng)地減少。到了納米級的設(shè)計中,閾值電壓的降低使漏電流增大,漏電流/靜念功耗所占的比重越來越大。提高域值電壓,可以降低漏電流功耗,但是對應(yīng)的邏輯門速度將會減慢。 在設(shè)計中采用多域值電
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