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1、目的:研究不同的缺氧方法對(duì)培養(yǎng)細(xì)胞二價(jià)金屬轉(zhuǎn)運(yùn)體(Divalentmetaltransporter1,DMTl)表達(dá)的影響,初步探討低氧誘導(dǎo)因子1(Hypoxiainduciblefactor-1,HIF.1)與DMTl兩種異構(gòu)體(+IREDMTl和-IREDMTl)之間的關(guān)系。 方法:用COCl2誘導(dǎo)PCI2細(xì)胞及HepG2細(xì)胞缺氧,檢測(cè)DMTl的表達(dá),確定對(duì)COCl2缺氧敏感的細(xì)胞株。在此基礎(chǔ)上用WesternBlot法檢測(cè)
2、低氧(1%02)及呼吸鏈抑制劑疊氮鈉(NaN3)和魚藤酮(Rotenone)對(duì)該細(xì)胞株HIF.1Q及DMTl表達(dá)的影響,用免疫細(xì)胞化學(xué)法檢測(cè)低氧(1%02)對(duì)HIF.1α及DMTl在該細(xì)胞內(nèi)分布的影響。 結(jié)果: 1.用不同濃度的CoCl2(0.025mM、0.05mM、0.125mM、0.25mM、0.5mM、1mM)處理PCI2細(xì)胞4小時(shí)后,其+IREDMTl的表達(dá)量與未用COCl2處理時(shí)相比,均無明顯改變。
3、2.HepG2細(xì)胞在經(jīng)過不同濃度的COCl2處理4小時(shí)后,隨著COCl2濃度的增加,HIF.1Q及DMTl的兩種異構(gòu)體的表達(dá)均逐漸增加。當(dāng)COCl2濃度為lmm時(shí)HIF.1Q表達(dá)量最大,在COCl2濃度為0.5mM時(shí)+IREDMTl和.IREDMTl的表達(dá)量達(dá)到最高值。 3.HepG2細(xì)胞HIF.1Q在低氧(1%02)處理1小時(shí)開始即有表達(dá),3小時(shí)至6小時(shí)其表達(dá)量達(dá)到高峰。+IREDMTl在低氧處理1小時(shí)也有增加,6小時(shí)達(dá)到最高
4、峰。.IREDMTl在低氧3小時(shí)開始表達(dá)有明顯增加,6小時(shí)達(dá)到最高并持續(xù)至12小時(shí)處。 4.HepG2細(xì)胞HIF.1Q在低氧6小時(shí)有明顯表達(dá),復(fù)氧24小時(shí)后,HIF.1Q被降解。復(fù)氧24小時(shí)后,+IREDMTl的表達(dá)也明顯少于單純低氧6小時(shí)的表達(dá)量,而-IREDMTl的表達(dá)量卻無明顯改變。 5.HepG2細(xì)胞用NaN3處理1小時(shí)后,DMTl的兩種異構(gòu)體在NaN3濃度為10mM及20mM時(shí),其表達(dá)量均比對(duì)照組明顯增加;用r
5、otenone處理24小時(shí)后,+IREDMTl在rotenone濃度為20ltm時(shí),其表達(dá)量與對(duì)照組相比有明顯的增加,.IREDMTl在rotenone濃度為1μM及20μM時(shí),其表達(dá)量與對(duì)照組相比均無明顯改變;NaN3和rotenone都不能使HepG2細(xì)胞HIF.1Q明顯表達(dá)。 6.在常氧環(huán)境中,DMTl兩種異構(gòu)體在HepG2細(xì)胞胞漿及胞核中均勻分布,HIF.1Q無明顯表達(dá)。低氧(1%02)可使+IREDMTl聚集于胞漿及核
6、膜上,而原本位于胞漿中的-IREDMTl更趨向于胞膜,胞核中的-IREDMTl也有向核膜集中的趨勢(shì),但不如+IREDMTl明顯,HIF.1Q則在細(xì)胞核中大量表達(dá)。 結(jié)論: 1.COCl2和低氧(1%02)可使HepG2細(xì)胞的HIF.1Q蓄積和DMTl兩種異構(gòu)體的表達(dá)增加,并且三者的變化趨勢(shì)基本一致,提示DMTl的表達(dá)可能受到HIF.1的調(diào)控,DMTl可能是HIF.1的下游基因。 2.NaN3和rotenone雖不
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