額隱窩周圍結構的CT觀察.pdf

1、目的: 通過冠狀位CT來觀察額隱窩周圍結構，認識清楚鉤突上端附著、鼻丘氣房及額篩氣房的發(fā)生情況；總結額隱窩區(qū)域結構的規(guī)律。 方法: 選擇因鼻竇炎或鼻中隔偏曲等鼻部疾病住院患者50例，行64層CT掃描，去除局部結構不清者5側，觀察CT影像上95側鉤突上端附著點、鼻丘氣房、額氣房、額竇內(nèi)間隔氣房等結構的出現(xiàn)情況及規(guī)律。 結果: 鼻丘氣房發(fā)生率為88％(84/95)；62％(59/95)的鉤突上端有多個

2、(兩個或以上)附著點，38％(36/95)有單一附著點；單一附著點中，主要位于眶紙板(94％)；96％(91/95)的鉤突在眶紙樣板上有附著點。額氣房的出現(xiàn)率為37％(35/95)，其中Ⅰ型氣房16％(15/95)，Ⅱ型3％(3/95)，Ⅲ型氣房18％(17/95)，未發(fā)現(xiàn)Ⅳ型氣房，額竇內(nèi)間隔氣房出現(xiàn)率為18％(8/50)。 結論: 鼻竇冠狀位CT基本能夠滿足鼻內(nèi)驚下額竇開放手術的要求；絕大多數(shù)額竇直接引流入中鼻道；有無