光刻機(jī)粗精耦合及同步控制算法研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、光刻技術(shù)是大規(guī)模集成電路制造技術(shù)和微光學(xué)、微機(jī)械技術(shù)的先導(dǎo)和基礎(chǔ);它決定了集成電路的集成度;而光刻機(jī)粗精耦合控制系統(tǒng)是實(shí)現(xiàn)精確定位的基礎(chǔ)。
  本文針對(duì)粗精組合結(jié)構(gòu)的精密工作臺(tái)系統(tǒng),以氣浮導(dǎo)軌支承、直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)的光刻機(jī)控制系統(tǒng)為研究對(duì)象,對(duì)粗動(dòng)臺(tái)和微動(dòng)臺(tái)高速高精度運(yùn)動(dòng)控制中的一些關(guān)鍵技術(shù)問題進(jìn)行了研究。
  本文要解決的是光刻機(jī)控制系統(tǒng)的理論性問題,要研究的主要內(nèi)容是在運(yùn)動(dòng)控制中,系統(tǒng)的動(dòng)力學(xué)特性及振動(dòng)、擾動(dòng)等對(duì)系統(tǒng)跟蹤特性

2、的影響,建立精確的系統(tǒng)動(dòng)力學(xué)模型,以保證系統(tǒng)的快速跟蹤特性。光刻機(jī)控制系統(tǒng)由工件臺(tái)及掩模臺(tái)兩套系統(tǒng)組成,分別為工件臺(tái)的被控對(duì)象及控制器和掩模臺(tái)的被控對(duì)象及控制器。此外,光刻裝置還包括一套同步控制系統(tǒng)以保證系統(tǒng)的協(xié)同工作特性。同步控制的目的是為了減小控制系統(tǒng)兩個(gè)平臺(tái)間的相對(duì)誤差,其基本方法是將微動(dòng)臺(tái)與粗動(dòng)臺(tái)的相對(duì)誤差傳給粗動(dòng)臺(tái),利用粗動(dòng)臺(tái)控制系統(tǒng)進(jìn)行補(bǔ)償。
  光刻機(jī)精密伺服控制系統(tǒng)是一種高響應(yīng)速度、高定位精度、無超調(diào)的伺服系統(tǒng),本

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