65nm光罩?jǐn)?shù)據(jù)制備流程的研究.pdf

1、分辨率增強(qiáng)技術(shù)在65nm及以下光刻工藝的廣泛使用，造成了光罩?jǐn)?shù)據(jù)文件容量驚人的增長和光罩刻制造性的困難。本研究工作以新的數(shù)據(jù)格式OASIS和光罩?jǐn)?shù)據(jù)制備流程為研究對象，以改善存儲空間瓶頸、減少重復(fù)操作和光罩的可制造性為目標(biāo)，試圖建立以新興的數(shù)據(jù)格式“OASIS”為基礎(chǔ)的光罩?jǐn)?shù)據(jù)制備流程，以滿足65nm以下新型工藝對光罩?jǐn)?shù)據(jù)處理的需求。通過GDSII與OASIS數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)和文件存儲空間的比較實驗，證明了OASIS比GDSII優(yōu)越的原因；通過

2、基于GDSII與基于OASIS的數(shù)據(jù)格式轉(zhuǎn)換的比較實驗，證明了基于OASIS的數(shù)據(jù)處理是正確的和可以進(jìn)行實際操作的；完成了OASIS數(shù)據(jù)格式在OPC處理方面的應(yīng)用，通過將OPC處理和圖形分解兩個分立的步驟整合成一個步驟，減少了中間文件，突破了系統(tǒng)存儲空間上的瓶頸，同時提高了數(shù)據(jù)處理的效率；完成了OASIS數(shù)據(jù)格式在MRC方面的應(yīng)用，通過基于OASIS的MRC檢查，在光罩檢驗前，向光罩檢驗員提供MRC結(jié)果報告，讓檢驗員根據(jù)光罩版圖的特點選