上海凸版光掩模有限公司競爭戰(zhàn)略研究.pdf

1、近20年來，集成電路工業(yè)每年的增幅都居世界領(lǐng)先地位，這種增長的主要技術(shù)動力來自于硅片制造光刻技術(shù)的成熟發(fā)展，而硅片光刻技術(shù)中光掩模制造業(yè)的快速發(fā)展正是集成電路行業(yè)長盛不衰的關(guān)鍵。光掩模制造是集成電路產(chǎn)業(yè)鏈中工藝、設(shè)備、管理技術(shù)要求最高，資金投入比重最大的瓶頸工序。任何商業(yè)化的集成電路制造都離不開光刻掩模版這一核心產(chǎn)業(yè)。近年來我國政府充分認識到其重要地位，制定了借助外資快速啟動這一項目的對策，幫助國內(nèi)集成電路工業(yè)提高了生產(chǎn)能力，提升了技術(shù)

2、檔次，減少了對進口集成電路高度依賴的被動局面。上海凸版光掩模有限公司就是在這種環(huán)境下進入中國光掩模制造行業(yè)的。在最初的發(fā)展過程中，公司作為中國唯一一家專業(yè)制造光掩模的工廠，具有行業(yè)領(lǐng)先者的優(yōu)勢，通過近10年的發(fā)展，公司逐漸成為國內(nèi)光掩模制造業(yè)的佼佼者。但隨著中國集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，國家產(chǎn)業(yè)政策開始微調(diào)，競爭對手業(yè)逐漸進入中國，并且公司由美國杜邦出售給日本凸版。面對這一些變化，公司有必要對戰(zhàn)略進行一次調(diào)整，以取得進一步的長足發(fā)展。

3、 本文旨在通過對目前中國集成電路制造業(yè)所處的外部環(huán)境的分析找到上海凸版光掩模有限公司所面臨的機會和威脅，并通過對公司內(nèi)部資源的分析找到公司所具有的優(yōu)勢和劣勢。利用SWOT分析為未來的發(fā)展制定公司競爭戰(zhàn)略以及各職能戰(zhàn)略，通過新戰(zhàn)略的實施來發(fā)揮公司優(yōu)勢消除劣勢以達到抓住外部機遇避讓威脅的目的。 首先，本文簡要介紹了集成電路制造業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀，并對上海凸版光掩模的發(fā)展歷程作了簡單描述，包括公司現(xiàn)狀、公司使命、公司現(xiàn)行戰(zhàn)略框架，經(jīng)營狀況，