低品位含硒物料中回收硒的研究.pdf

1、本研究根據(jù)低品位含硒物料的成分和存在形態(tài),針對(duì)現(xiàn)有提硒工藝流程長(zhǎng)、污染大、成本高等缺點(diǎn),提出了煤油脫硫-氧化浸出-控電位還原.粗硒精制的新工藝。
　　 根據(jù)熱力學(xué)數(shù)據(jù)繪制了298K和373K條件下Se-H2O系的E-pH圖,確定了硒、亞硒酸氫根、亞硒酸根、硒酸氫根及硒酸根等離子在水溶液中的穩(wěn)定區(qū)域,分析表明:氯酸鈉浸出單質(zhì)硒在熱力學(xué)上是可行的；還繪制了298K條件下SO2-H2O系的E-pH圖和SO2-Se-H2O系的E-pH圖

2、,確定了SO2還原Se的穩(wěn)定區(qū)域。分析表明:在氧化浸出液中添加硫脲,其次添加Na2SO3可還原得到單質(zhì)Se。
　　 研究了反應(yīng)溫度、液固比、反應(yīng)時(shí)間等因素對(duì)煤油脫硫的影響,得出最佳條件:反應(yīng)溫度為95℃、液固比為8:1、反應(yīng)時(shí)間為0.5h,在此條件下,脫硫率達(dá)97.98％。對(duì)氧化浸出工藝進(jìn)行了研究,在M(脫硫渣):M(氯酸鈉)為2:1、H2SO4濃度為300g/L、液固比為5:1、浸出溫度為80℃、浸出時(shí)間為3h的條件下,浸硒率

3、達(dá)97.76％。選用硫脲聯(lián)合亞硫酸鈉控電位還原硒,結(jié)果表明:控制相對(duì)電位為850mV,硫脲濃度為3g/L,硫酸濃度為150g/L；其次控制相對(duì)電位為500mV,亞硫酸鈉濃度為35g/L,反應(yīng)時(shí)間為10h的條件下,硒的還原率達(dá)99.7％。
　　 研究了Na2SO3濃度、浸出溫度、浸出時(shí)間、Na2S濃度和H2SO4濃度對(duì)粗硒除雜的影響。結(jié)果表明:在Na2SO3濃度為300g/L、浸出溫度為98℃、浸出時(shí)間為2h、Na2S濃度為2g/