基于Encounter的深亞微米布局設計和布線方法研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、集成電路自發(fā)明至今已經過了半個世紀,50多年的高速發(fā)展使得集成電路規(guī)模更大,更高的集成度也使特征尺寸越來越小。如今集成電路已經滲透到現代化生活的方方面面?,F代通信、醫(yī)療和交通系統,全都依賴于集成電路而存在。然而,集成電路設計也面臨諸多挑戰(zhàn),如特征尺寸的縮小導致互連線串擾提高,時序收斂因多個變量互相牽制變得更加復雜,如何預測并能夠真實反映這些深亞微米效應,需要通過研究找出一個簡單可信賴的后端設計流程。
  本文章采用Cadence公

2、司Soc Encounter后端工具對基于0.18μm工藝的ASIC芯片進行后端設計研究,分析了自動布局布線的過程和原理,對SoC Encounter的布線機制進行了深入的分析,并完成AGC模塊的布線。
  后端設計分為設計前的數據準備、布局規(guī)劃、標準單元放置、時鐘樹綜合、靜態(tài)時序分析、布線等幾個階段,本文重點研究了時鐘樹綜合和靜態(tài)時序分析。其中,時鐘樹綜合通過三組實驗進行對比研究,提出了采用專用大驅動時鐘緩沖器和反相器進行時鐘樹

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